ISSHIKI Hideo

イツシキヒデオ | ISSHIKI Hideo

Affiliation and department：
Job title： Professor
Homepage URL (1)： http://www.flex.es.uec.ac.jp/

Research field (1)： Electronic devices and equipment

Research keywords (11)： Heterogeneous Integration , epitaxial growth , rare-earth , diamond , furactal , silicon photonics , エピタキシャル成長 , 希土類 , ダイヤモンド , フラクタル , シリコンフォトニクス

Research theme for competitive and other funds (9)：

2000 - 2001 Rare earth doped semiconductors and its application to waveguide active devices for photonic circuits
2000 - 2001 Dynamics of the Er1.54μm emission of Er-dope SiO_2/Si ultrathin multilayer structures
1999 - 2001 低速多価イオンビームによる原子操作
1997 - 1997 半導体量子閉じ込め構造間の電子相互作用による秩序形成と光相互作用に関する共同研究
1996 - 1997 Optical Memory Fabricated by Rare Earths-Doped Si Nanostructures

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Papers (133)：

一色秀夫. Si プラットフォーム上ダイヤモンドデバイス集積の実現に向けて. 日本信頼性学会誌「信頼性」. 2024. 46. 2. 49-54
Asuka Ishizawa, Hiroaki Aizawa, Hideo Isshiki, Shinichiro Kaku, Kazuto Miyano, Xinwei Zhao, Mariko Murayama. A significant increase in carrier concentration in TiO₂ by Sm doping. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 03SP79-03SP79
Mehdi Ali, Daiki Yamashita, Hideo Isshiki. Growth of CuAlO₂ on SiO₂ under a layer-by-layer approach conducted by digitally processed DC sputtering and its transistor characteristics. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 035502-035502
Hideo ISSHIKI, Ghent NAKAMURA, Yasuhito TANAKA, Shinichiro SAISHO. The Role of Reactive Gas Pulsing Synchronized with Digitally Processed DC Sputtering. Vacuum and Surface Science. 2023. 66. 8. 484-489
Ghent Nakamura, Hideo Isshiki. Atomically Precise Deposition of (Er0.1Y0.9)2SiO5 Combined with Digitally Processed DC Sputtering and Non-Radical Oxidation. Journal of Vacuum Science & Technology A. 2022. 40. 5. 053406-1-053406-6

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MISC (6)：

NAKAJIMA Takayuki, SHINAGAWA Tatsunori, SUGAWARA Takuya, JIANG Yousong, KIMURA Tadamasa, ISSHIKI Hideo. Study on wave-guiding property of Er_<0.45>Y_<1.55>SiO_5 crystalline waveguide. Technical report of IEICE. OPE. 2011. 111. 358. 23-25
一色秀夫, 木村忠正. シリコンフォトニクスに向けた新しい発光材料 Er2SiO5超格子結晶. 応用物理. 2009. 78. 5. 427-431
木村忠正, 一色秀夫. シリコンを光らせるにはどうすればよいのか. 光アライアンス. 2009. 20. 1. 1-7
YOSHIZAWA Jun, ISSHIKI Hideo, KIMURA Tadamasa. Fabrication and evaluation of Er_2SiO_5 crystal thin film by spray CVD method. IEICE technical report. 2008. 108. 370. 17-22
一色秀夫. ErSiO 超格子結晶 –シリコンフォトニクスに向けた新しい発光材料-. MRS-J News. 2006. 18. 2. 2-3

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Patents (7)：

ナノ結晶ダイヤモンド及びその製造方法、製造装置
単結晶ダイヤモンドの製造方法、単結晶ダイヤモンド、単結晶ダイヤモンド基板の製造方法、単結晶ダイヤモンド基板及び半導体デバイス
原子層成長による薄膜形成方法
ダイヤモンド薄膜のコーティング法及びダイヤモンド被膜超硬合金部材
原子層成長による量子細線および量子箱の形成方法

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Books (5)：

理工学のための数学入門微分方程式・ラプラス変換・フーリエ解析
オーム社 2020 ISBN:9784274226137
電気電子数学入門微分方程式・ラプラス変換・フーリエ解析
オーム社 2012
Silicon Photonics
Ohmsha 2007
電子材料ハンドブック
朝倉書店 2007
Conduction Subband Formation in (GaAs)m(GaP)n Fractal struceured Atomic -Layer-Superlattice Grown by Atomic Layer Epitaxy
Preceedings of the 24th lneernational Comference on The physics of Semiconduceors, published by World Scientific Publisshing Co. 1999

Lectures and oral presentations (61)：

Layer-by-layer Synthesis of Functional Oxides by Digitally Processed DC Sputtering with Alternating Surface Oxidation
(2024 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2024) 2024)
Room temperature synthesis of ferroelectric Hf1-xZrxO2 films under layer-by-layer approach using digitally processed DC sputtering
(The 17th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes(ISSP2024) 2024)
Synthesis of CuAlO2/Si heterostructures by DPDS-assisted LBL approach and their transistor characteristics
(2023 International Conference on Solid State Device and Materials (SSDM) 2023)
Formation of (Er0.1Y0.9)2Zr2O7 waveguide amplifier by digitally processed DC sputtering toward heterogeneous integration on SiNx waveguide circuits
(E-MRS 2023 SPRING MEETING 2023)
Synthesis of functional crystalline oxides by digitally processed DC sputtering synchronized with oxygen gas pulsing
(E-MRS 2023 SPRING MEETING 2023)

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Education (4)：

- 1992 The University of Electro-Communications Graduate School, Division of Electro Communications 電子工学専攻
- 1987 The University of Electro-Communications Graduate School, Division of Electro Communications 応用電子工学専攻
- 1985 The University of Electro-Communications Faculty of Electro Communications 応用電子工学科
1977 - 1980 埼玉県立大宮高等学校

Professional career (2)：

工学修士 (電気通信大学)
博士(工学) (電気通信大学)

Work history (8)：

2016/04/01 - 電気通信大学大学院情報理工学研究科基盤理工学専攻教授
2013/03/01 - 2016/03/31 電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻教授
2007/04 - 2013/02 電気通信大学大学院情報理工学研究科先進理工学専攻准教授
2004/02 - 2007/03 電気通信大学電気通信学部電子工学科助教授
1997/04 - 2004/01 電気通信大学電気通信学部電子工学科助手

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Committee career (10)：

2019/06 - 現在電子情報通信学会光集積及びシリコンフォトニクス特別研究専門委員会委員
2014/08 - 現在電子情報通信学会システムナノ技術に関する特別研究専門委員会委員
- 現在電子材料シンポジウム論文委員
2019/06 - 2021/06 電子情報通信学会光集積及びシリコンフォトニクス特別研究専門委員会委員長
2018/09/01 - 2019/05/31 電子情報通信学会シリコンフォトニクス特別研究専門委員会委員長

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Association Membership(s) (4)：

American Vacuum Society(AVS) , ニューダイヤモンドフォーラム , 電子情報通信学会 , 応用物理学会

※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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