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J-GLOBAL ID：200901030687526389   Update date: Jul. 31, 2022

Yoshida Toyonobu

ヨシダ トヨノブ | Yoshida Toyonobu
Affiliation and department：
The University of Tokyo The Graduate School of Engineering, Department of Materials Engineering

About The University of Tokyo The Graduate School of Engineering, Department of Materials Engineering


Job title： professor
Homepage URL  (1)： http://www.plasma.t.u-tokyo.ac.jp
Research field  (3)： Material fabrication and microstructure control ,  Basic plasma science ,  Applied plasma science
Research keywords  (6)： プラズマプロセス診断 ,  薄膜プロセシング ,  プラズマコーティングプロセシング ,  Plasma Process Diagnostics ,  Thin Film Processing ,  Plasma Coating Processing
Research theme for competitive and other funds  (8)：
  • メゾプラズマCVD及びPVD法の開発及びその電子機能厚膜の高速成膜への応用
  • ハイブリッドプラズマスプレー法による熱遮蔽コーティング製造プロセス
  • プラズマ溶射プロセスの基礎
  • プラズマCVD及びスパッタリング法によるcBN薄膜合成
  • Development of MPCVD and MPPVD and Its Application to High Rate Deposition of Si-based Materials
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MISC (96)：
  • K.Nose, K.Tachibana, and T.Yoshida,Rectification properties of layered boron nitride films on silicon. Appl. Phys. Letts. 2003. 83(5), 943-945
  • H. Yang, C. Iwamoto, and T. Yoshida,Interface engineering of cBN films deposited on silicon substrates. J. Appl. Phys. 2003. 94(2), 1248-1251
  • X.H.Wang,K.Eguchi,C.Iwamoto,T.Yoshida,Ultrafast thermal plasma physical vapor deposition of thick SiC films. Sci. and Tech. of Adv. Mater. 2003. 4(2) 159-165
  • X.H.Wang,A.yamamoto,K.Eguchi,H.Obara,T.Yoshida,Thermoelectric properties of SiC thick films deposited by thermal plasma physical vapor deposition. Sci. and Tech. of Adv. Mater. 2003. 4(2) 167-172
  • S. A. Kulinichi, T. Yoshida, H. yamamoto, and K. Terashima,Thermal plasma fabricated lithium niobate-tantalate films on sapphire substrate. J. Vac. Sci. Technol. A. 2003. (No.4) 21, 994-1003
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Patents (12)：
  • マイクロ波熱プラズマ・トーチ
  • プラズマ反応法による有機ハロゲン化合物の分解装置
  • 高硬度を有する窒化ほう素堆積膜の形成方法
  • 高周波誘導プラズマによる有機ハロゲン化合物の分解方法及びその装置
  • 熱プラズマ蒸発法による成膜方法
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Books (1)：
  • Nano-scale processing with a scanning tunneling microscope (STM) under atmospheric or reduced pressure(jointly worked)
    Elsevier Science Publishers B. V. "New Functionality Materials" 1993
Works (24)：
  • 高次制御ナノスコピック電子材料の熱プラズマ超高速クラスター成膜法創製
    1997 - 2001
  • Development of Ultra-high Rate Thermal Plasma Cluster Deposition Method for Well-controlled Nano-Scopic Electronic Materials
    1997 - 2001
  • ナノコーティングプロジェクト
    2001 -
  • Nano-Coating Project
    2001 -
  • 最新プラズマ技術による高性能固体燃料電池集積製造プロセス開発
    1995 - 1997
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Education (4)：
  • - 1977 The University of Tokyo
  • - 1977 The University of Tokyo Graduate School, Division of Engineering
  • - 1972 The University of Tokyo The Faculty of Engineering
  • - 1972 The University of Tokyo Faculty of Engineering
Professional career (1)：
  • Dr.Eng. (The University of Tokyo)
Work history (8)：
  • 1984 - 1989 The University of Tokyo
  • 1984 - 1989 The University of Tokyo, Associate Professor
  • 1989 - - 東京大学 教授
  • 1989 - - The University of Tokyo, Professor
  • 1982 - 1984 The University of Tokyo
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Committee career (12)：
  • 2002 - 日本金属学会 理事
  • 1997 - 1998 IUPAC Subcommittee on Plasma Chemistry Chairman
  • 1996 - 1998 IUPAC Subcommittee on Plasma Chemistry国際純正応用化学連合プラズマ化学小委員会 アジア代表委員,副議長,議長
  • 1990 - 1997 日本学術振興会第153委員会 委員長,監事
  • 1990 - 1996 JSPS-153 Committee on Plasma Materials Science Chairman
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Awards (17)：
  • 2003 - 日本金属学会増本量賞
  • 2003 - Masumoto Hakaru Award((Japan Inst. of Metals)
  • 2000 - IUPAC Fellow
  • 1999 - IUPAC Fellow
  • 1996 - 科学技術庁注目発明選定賞
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Association Membership(s) (12)：
VAMAS TWA22 ,  IUPAC Subcommittee on Plasma Chemistry国際純正応用化学連合プラズマ化学小委員会 ,  日本学術振興会第153委員会 ,  表面技術協会 ,  高温学会 ,  日本真空協会 ,  日本セラミックス協会 ,  資源・素材学会 ,  日本金属学会 ,  日本鉄鋼協会 ,  IUPAC Subcommittee on Plasma Chemistry ,  JSPS-153 Committee on Plasma Materials Science
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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