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J-GLOBAL ID:200901037517336334   Update date: Nov. 19, 2021

Kubo Toshiharu

クボ トシハル | Kubo Toshiharu
Affiliation and department:
Job title: Associate Professor
Homepage URL  (1): http://www.geocities.jp/egawa_lab/
Research field  (3): Electronic devices and equipment ,  Electric/electronic material engineering ,  Applied materials
Research keywords  (1): electronic device
Research theme for competitive and other funds  (10):
  • 2010 - 現在 Electronic states at insulator/GaN interface
  • 2019 - 2022 極微細金属パターン付き基板による高性能低消費電力グラフェンFETの作製
  • 2020 - 2021 Si基板上GaNパワーデバイスの性能を向上させるゲート構造用絶縁膜の開発
  • 2019 - 2020 極微細金属パターン付き基板を用いた高性能グラフェン FET の作製
  • 2017 - 2020 低炭素社会を実現する次世代パワーエレクトロニクスプロジェクト/GaNパワーデバイス等の実用化加速技術開発
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Papers (23):
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Patents (2):
  • ゲート絶縁膜の形成方法、および、ゲート絶縁膜
  • グラフェンデバイスおよびその製造方法
Lectures and oral presentations  (87):
  • ALDにより成膜したSiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたノーマリーオフ型AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性評価
    (電子情報通信学会11月研究会 2021)
  • ALDにより成膜したSiO2/Al2O3 2層絶縁膜を用いたノーマリーオフ型AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性
    (第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021)
  • Pt/ALD-Al2O3/AlGaN/GaN MIS-HEMTの電気特性に及ぼすフォーミングガスアニールの効果III
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • 転写フリーグラフェンの結晶性に及ぼすNi金属触媒の結晶性の効果II
    (第68回応用物理学会春季学術講演会 2021)
  • Estimation of Electrical Properties of AlGaN/GaN MIS-HEMTs with SiO2/Al2O3 Double Insulators Fabricated by ALD
    (ISPlasma2021 2021)
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Education (2):
  • 1999 - 2005 Keio University School of Fundamental Science and Technology
  • 1995 - 1999 Keio University Department of applied physics and physico-informatics
Professional career (2):
  • 博士(工学) (慶應義塾大学)
  • Doctor(Engineering) (Keio University)
Work history (4):
  • 2018/04/01 - 現在 Nagoya Institute of Technology Graduate School of Engineering Shikumi College Associate Professor
  • 2010/04/01 - 2018/03/31 Nagoya Institute of Technology Assistant Professor
  • 2008/12/15 - 2010/03/31 Hokkaido University Research Center for Integrated Quantum Electronics Part-time researcher for university or other academic organization
  • 2005/10/15 - 2008/12/14 The University of Tokyo School of Engineering Part-time researcher for university or other academic organization
Committee career (5):
  • 2018/04/01 - 現在 電子情報通信学会電子デバイス研究会 委員
  • 2014/04/01 - 現在 応用物理学会応用電子物性分科会 幹事
  • 2016/10 - 2018/11/16 日本応用物理学会 IWN2018(金沢)実行委員会・現地実行委員
  • 2016/10 - 2017/11 日本応用物理学会 IWUMD2017(福岡)実行委員会・寄付/展示委員
  • 2010/11 - 2011/03 実行委員
Awards (1):
  • 2017/03/05 - ISPlasma2017/IC-PLANTS2017 Committee ISPlasma2017/IC-PLANTS2017 Best Presentation Award
Association Membership(s) (2):
電子情報通信学会電子デバイス研究会 ,  日本応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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