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J-GLOBAL ID:200901037580560287   Update date: Jul. 30, 2008

Kurosawa Kou

クロサワ コウ | Kurosawa Kou
Affiliation and department:
Research field  (3): Electronic devices and equipment ,  Electric/electronic material engineering ,  Semiconductors, optical and atomic physics
Research keywords  (6): 表面光反応 ,  石英ガラス ,  薄膜 ,  Surface photo chemistry ,  silica glass ,  Thin film
Research theme for competitive and other funds  (10):
  • 光ナノ加工
  • 薄膜コーティング技術
  • 超短パルスレーザーを用いた超微細加工
  • 石英ガラスの光デバイス応用
  • 真空紫外光を用いた薄膜製作
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MISC (2):
Patents (3):
  • 半導体製造装置
  • 膜の形成方法及びその方法を実施するためのCVD装置
  • 真空紫外光を用いた常圧CVD装置の製造方法
Books (2):
  • レーザー基礎の基礎
    オプトロニクス社 1996
  • Understanding Fundamental Lasers
    Optronics Co. 1996
Works (6):
  • 真空紫外光によるプラスチックの表面処理
    2001 -
  • Surface modification of plastics with vacuum ultraviolet radiation
    2001 -
  • フェムト秒レーザーによる材料加工
    2000 -
  • Material processing with fs Laser pulses
    2000 -
  • 真空紫外光CVDによるSiO<sub>2</sub>薄膜製作
    1998 -
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Professional career (1):
  • (BLANK) (Osaka Prefecture University)
Committee career (1):
  • 2001 - レーザー学会 評議員
Awards (1):
  • 1985 - レーザー学会業績賞
Association Membership(s) (4):
米国材料学会 ,  米国光学会 ,  レーザー学会 ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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