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J-GLOBAL ID：200901072615594600   Update date: May. 01, 2020

Ishikawa Takamasa

イシカワ タカマサ | Ishikawa Takamasa
Affiliation and department：
旧所属 九州大学 大学院総合理工学府 量子プロセス理工学専攻

About 旧所属 九州大学 大学院総合理工学府 量子プロセス理工学専攻


Job title： その他
Research field  (2)： Thin-film surfaces and interfaces ,  Electronic devices and equipment
Research keywords  (3)： 光・電子物性 ,  薄膜 ,  導電性高分子
Research theme for competitive and other funds  (1)：
  • 2000 - 2005 新規薄膜調製法の開発
MISC (2)：
Education (2)：
  • - 2002 九州大学大学院 総合理工学府 量子プロセス理工学専攻
  • - 2000 Saga University Faculty of Science and Engineering
Professional career (1)：
  • 修士(工学) (九州大学)
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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