Kyoto University
Division of Materials Science, Graduate School of Human and Environmental Studies
Professor
Research field (6):
Electric/electronic material engineering
, Chemical reaction and process system engineering
, Thin-film surfaces and interfaces
, Basic physical chemistry
, Basic plasma science
, Applied plasma science
Research keywords (4):
Thin film processing
, Electronic materials and devices
, Plasma chemistry
, Molecular spectroscopy
Research theme for competitive and other funds (25):
2022 - 2026 気液界面プラズマによる高効率炭素固定プロセスの開発と応用
2018 - 2020 磁性透明導電膜による有機材料へのスピン注入とそのデバイス応用
2020 - 気液界面プラズマを用いた物質変換プロセスの開発と医療・農業分野への応用
2016 - 2018 密閉型気液界面プラズマ反応を用いた二酸化炭素の過ギ酸への変換とその高効率化
2017 - 密閉型気液界面プラズマ法による過ギ酸合成技術
2011 - 2014 磁気機能を有するバイポーラー抵抗スイッチング素子のメモリスター応用
2014 - 磁気機能を有する抵抗スイッチングメモリー材料の開発とメモリスター応用
2007 - 2010 抵抗変化型不揮発性メモリー材料薄膜のその場分光診断制御MOCVD技術の開発
2008 - 強磁性透明導電膜に関する事業化調査
2004 - 2007 ハーフメタル強磁性体薄膜のMOCVDのその場分光診断に基づくプロセス制御
2006 - 2007 先端薄膜材料のナノ構造制御研究開発
2003 - 2007 Analyses of spatiotemporal dynamic behavior of microplasmas based on three-dimensional diagnostics
2005 - MOCVD法による材料開発
2003 - 2004 Generation methods for high pressure plasmas to be operated in wide parameter ranges and their applications.
2004 - 次世代電子デバイスのための先端薄膜材料のナノ構造制御
2003 - ハーフメタル強磁性体のMOCVDにおける薄膜形成メカニズムのin situ診断
2003 - ハーフメタル強磁性体材料のMOCVDにおける薄膜形成メカニズムの研究
2000 - 2002 低誘電率層間絶縁膜作製プラズマCVDの表面和周波発生振動分光による診断
2001 - 2002 Diagnostics of Gas-Phase and Surface Reactions of Atomic Radicals in Processing Plasmas by Vacuum Ultraviolet Laser Spectroscopy
2002 - その場分光診断に基づいて制御された高誘電率薄膜堆積プロセスの開発
1998 - 2000 高誘電率薄膜作製MOCVDプロセスのマイクロ波分光による診断
1998 - 1999 Process Diagnostics in High-Aspect-Ratio Patterns by Microscopic Interferometry
1996 - 1998 Generation of a Large Diameter and High Density Processing Plasma
1997 - 高誘電体薄膜作製MOCVDプロセスのin situマイクロ波分光による診断
1993 - 1996 有機高スピンイオンの実験及び理論的研究
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Papers (59):
D. Ootsuki, T. Ishida, N. Tsutsumi, M. Kobayashi, K. Inagaki, T. Yoshida, Y. Takeda, S. Fujimori, A. Yasui, S. Kitagawa, et al. Effect of Mn substitution on the electronic structure for Mn-doped indium-tin oxide films studied by soft and hard x-ray photoemission spectroscopy. Physical Review Materials. 2023. 7. 12. 124601-1-6
S. Kitagawa, T. Nakamura. Sputter epitaxy and characterization of manganese-doped indium tin oxide films with different crystallographic orientations. Journal of Applied Physics. 2023. 134. 16. 165302-1-11
S. Kitagawa, T. Nakamura. Effect of Crystallinity on Magnetic Properties in Manganese-Doped Indium Tin Oxide Films. 2023 IEEE International Magnetic Conference (INTERMAG). 2023
Momose S, Nakamura T, Tachibana K. Gas Phase Reactions in the MOCVD of (Ba,Sr)TiO3 Films : A Study by Microdischarge Optical Emission Spectroscopy. Extended abstracts of the ... Conference on Solid State Devices and Materials. 2000. 2000. 160-161
Photoemission spectroscopy of diluted magnetic semiconductor In<SUB>2-<I>x</I>-<I>y</I></SUB>Mn<SUB><I>x</I></SUB>Sn<SUB><I>y</I></SUB>O<SUB>3</SUB>
(Advanced Materials Research Grand Meeting (MRM2023/IUMRS-ICA2023))
Deposition Temperature Dependence of the Electrical, Optical, and Magnetic Properties of Polycrystalline Manganese-Doped Indium Tin Oxide Films
(Advanced Materials Research Grand Meeting (MRM2023/IUMRS-ICA2023) [9th International Symposium on Transparent Conductive Materials & 13th International Symposium on Transparent Oxide and Related Materials for Electronics and Optics (TCM-TOEO 2023)])