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J-GLOBAL ID：200902007559072172
Reference number：89A0596058
Contaminant detection method utilizing polarization characteristics of light reflected from LSI patterns. Automatic detecting technique for patterned wafer surface contaminants inspection.
LSIパターンからの反射光の偏光特性を利用した異物検出法の開発 LSIウェハ上異物の自動検出技術の研究
Author (2)：
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Material：
Volume：
25
Issue：
9
Page：
954-961
Publication year：
Sep. 1989
JST Material Number：
S0104A
ISSN：
0453-4654
CODEN：
KJSRA
Document type：
Article
Article type：
原著論文
Country of issue：
Japan (JPN)
Language：
JAPANESE (JA)
Thesaurus term：
Thesaurus term/Semi thesaurus term
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JST classification (1)：
JST classification
Category name(code) classified by JST.
Manufacturing technology of solid-state devices
Reference (12)：
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1) 服部毅:VLSIプロセスにおけるコンタミネーション・コントロール,月刊Semiconductor World, 5-12, 119/125 (1986)
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2) R.G. Knollenberg: A Polarization Diversity Surface Analysis System, Proc. SPIE, 774, 32/40 (1987)
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3) P. Lilienfeld: Optical Detection of Particle Contamination on Surface: A Review (Aerosol Science and Technology 5), 145/165, Elsevier Science Publishing Co. Inc. (1986)
-
4) 小泉,ほか:LSIウェハパターンからの反射光の解析,計測自動制御学会論文集, 21-8, 86/92 (1985)
-
5) 小泉,ほか:LSIプロセスにおける微小異物検出技術,日立評論, 68-9, 43/48 (1986)
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