Silylation processes for 193-nm excimer laser lithography.

HARTNEY M A; KUNZ R R; EHRLICH D J; SHAVER D C

Art

J-GLOBAL ID：200902007810147438 Reference number：90A0804457

Silylation processes for 193-nm excimer laser lithography.

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Volume： 1262 Page： 119-130 Publication year： 1990
JST Material Number： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA) Language： ENGLISH (EN)

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