Art
J-GLOBAL ID：200902015675479630   Reference number：83A0144252

A multichannel flash tube implemented for large area annealing of ion implanted semiconductors.

イオン注入半導体の広面積アニーリングを行う多チャネルフラッシュ管
Author (1)：
LUE J T

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(Kernforschungszentrum Karlsruhe, FRG)

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Material：
Vacuum

About Vacuum


Volume： 32  Issue： 12  Page： 713-718  Publication year： Dec. 1982 
JST Material Number： E0347A  ISSN： 0042-207X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)
Thesaurus term：
Thesaurus term/Semi thesaurus term
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semiconductor thin film

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JST classification (2)：
JST classification
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Irradiational changes semiconductors 
(BK16123E)

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(NC02020D)

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