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J-GLOBAL ID：200902022710167104   Reference number：92A0271921

Dissolution Kinetics of High Resolution Novolac Resists.

高解像度ノボラックレジストの解離反応速度論

Author (5)： ITOH K (NEC Corp.) ,  KASAMA K (NEC Corp.) ,  YAMANAKA K (NEC Corp.) ,  OHFUJI T (NEC Corp.) ,  NOZUE H (NEC Corp.)
Material： NEC Research & Development  (NEC Res Dev)
Volume： 33  Issue： 1  Page： 15-24  Publication year： Jan. 1992 
JST Material Number： G0138A  ISSN： 0547-051X  CODEN： NECRA  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photoresist ,...

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JST classification (1)： Other reactions of polymer  (CG03040H)

Terms in the title (5)： 高解像度 ,  ノボラック ,  レジスト ,  解離 ,  反応速度論