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J-GLOBAL ID：200902026770537348   Reference number：91A0813691

Hydrogen Evolution from Hydrogenated Amorphous Silicon Films and Its Application to the Characterization of Films.

水素化アモルファスシリコン膜における水素放出特性とその膜質評価への応用

Author (4)： HONMA KAZUAKI (東京電機大 工) ,  ADACHI KUMI (東京電機大 工) ,  MURAYAMA YUKI (東京電機大 工) ,  MOTOHASHI MITSUYA (東京電機大 工)
Material： 電子情報通信学会論文誌 C-2  (Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
Volume： 74  Issue： 9  Page： 673-681  Publication year： Sep. 1991 
JST Material Number： L0196A  ISSN： 0915-1907  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： amorphous semiconductor ,...

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JST classification (1)： Solic-state devices in general  (NC03010Z)

Terms in the title (5)： 水素化アモルファスシリコン ,  水素放出 ,  膜質 ,  評価 ,  応用