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J-GLOBAL ID：200902037517284699   Reference number：91A0563095

Characterization of SiO₂ on Si₃N₄ by XPS and FT-IR.

XPSとFT-IRによる窒化珪素膜上の酸化膜の分析

Author (4)： DOMAE KAZUHIKO (豊田中研) ,  INOUE KAZUYUKI (豊田中研) ,  KODAMA MASATO (豊田中研) ,  YOKOKAWA KYOKO (豊田中研)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 38th  Issue： Pt 2  Page： 504  Publication year： Mar. 1991 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： XPS ,  Ir ,  窒化珪素膜 ,  酸化膜 ,  分析