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J-GLOBAL ID：200902046615389260   Reference number：86A0424955

Ionized cluster beam technique and its applications for deposition and epitaxy.

クラスターイオンビーム技術とその応用

Author (1)： TAKAGI TOSHINORI (京大工)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 55  Issue： 8  Page： 746-763  Publication year： Aug. 1986 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： molecular cluster ,...

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JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Reference (71)：

• 1) 高木俊宜:応用物理 53 (1984) 695.
• 2) 高木俊宜:応用物理 51 (1982) 1070.
• 3) T. Takagi, I. Yamada, M. Kunori and S. Kobiyama: Proc. 2nd int. Conf. Ion Sources, Vienna (Österreichische Studiengesellshaft für Atomenergie, Vienna, 1972) p. 790.
• 4) T. Takagi: Thin Solid Films 92 (1982) 1.
• 5) T. Takagi: Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 27 (1984) 501.

Terms in the title (2)： クラスターイオンビーム ,  応用