Art

J-GLOBAL ID：200902051308156783   Reference number：86A0384104

Thermal annealing behaviour of Si/SiO₂ structures.

Si/SiO₂構造の熱処理特性

Author (5)： LIFSHITS V G (Inst. Automation and Control Processes Academy of Sciences of the U.S.S.R.) ,  KAVERINA I G (Inst. Automation and Control Processes Academy of Sciences of the U.S.S.R.) ,  KOROBTSOV V V (Inst. Automation and Control Processes Academy of Sciences of the U.S.S.R.) ,  SARANIN A A (Inst. Automation and Control Processes Academy of Sciences of the U.S.S.R.) ,  ZOTOV A V (Inst. Automation and Control Processes Academy of Sciences of the U.S.S.R.)
Material： Thin Solid Films
Volume： 135  Issue： 1  Page： 99-105  Publication year： Jan. 02, 1986 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

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JST classification (1)： 金属-絶縁体-半導体構造【’81~’92】  (BM03074V)

Terms in the title (3)： Si ,  SiO2 ,  熱処理特性