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J-GLOBAL ID：200902059356363627   Reference number：86A0007269

Plasma-enhanced chemical vapor deposition of titanium sulfides.

硫化チタンのプラズマ増強化学蒸着

Author (4)： SHIMANOUCHI R (Osaka Univ.) ,  YAMAMOTO T (Osaka Cement Co. Ltd., Osaka) ,  KIKKAWA S (Osaka Univ.) ,  KOIZUMI M (Osaka Univ.)
Material： Chemistry Letters  (Chem Lett)
Issue： 9  Page： 1323-1326  Publication year： Sep. 1985 
JST Material Number： S0742A  ISSN： 0366-7022  CODEN： CMLTAG  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： titanium compound ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Secondary batteries  (YB04030K)

Reference (4)：

• 1) S. M. Ojha, Phys. Thin Films, 12, 237 (1982).
• 2) M. S. Whittingham, Prog. Sol. St. Chem., 12, 41 (1978).
• 3) M. S. Whittingham and J. A. Panella, Mater. Res. Bull., 16, 37 (1981).
• 4) J. L. Vossen, J. Electrochem. Soc., 126, 319 (1979).

Terms in the title (2)： 硫化チタン ,  プラズマ増強化学蒸着