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J-GLOBAL ID：200902063303069490
Reference number：92A0633994
Hexafluoroacetone in Resist Chemistry: A Versatile New Concept for Materials for Deep UV Lithography.
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Publisher site
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Author (3)：
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Material：
Volume：
1672
Page：
500-512
Publication year：
1992
JST Material Number：
D0943A
ISSN：
0277-786X
CODEN：
PSISDG
Document type：
Proceedings
Country of issue：
United States (USA)
Language：
ENGLISH (EN)
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