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J-GLOBAL ID：200902063822184034   Reference number：92A0599176

Studies on Sputtering Characteristics of ITO Target.

透明導電膜形成用スパッタリングターゲットの開発(3) 低温成膜用ITOターゲットの開発

Author (3)： YOSHIMURA RYOJI (東ソー) ,  OGAWA NOBUHIRO (東ソー) ,  MORI TAKASHI (東ソー)
Material： 東ソー研究報告  (Tosoh Kenkyu Hokoku)
Volume： 36  Issue： 2  Page： 153-159  Publication year： Jul. 1992 
JST Material Number： F0529A  ISSN： 0914-3106  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： indium oxide ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Materials of solid-state devices  (NC03020K)

Terms in the title (7)： 透明導電膜 ,  スパッタリングターゲット ,  開発 ,  低温 ,  成膜 ,  ITO ,  ターゲット