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J-GLOBAL ID：200902072495121880   Reference number：89A0131215

Silicon hydride etch products from the reaction of atomic hydrogen with Si(100).

Si(100)面と原子状水素の反応によるSi水素化物のエッチ生成物

Author (3)： GATES S M (IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA) ,  KUNZ R R (IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA) ,  GREENLIEF C M (IBM T.J. Watson Research Center, NY, USA)
Material： Surface Science  (Surface Science Letters)
Volume： 207  Issue： 2/3  Page： 364-384  Publication year： Jan. 1989 
JST Material Number： C0129B  ISSN： 0039-6028  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...
Semi thesaurus term： TPD ,...

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JST classification (1)： Study of adsorption by physical means  (CB12043P)

Terms in the title (5)： Si ,  原子状水素 ,  水素化物 ,  エッチ ,  生成物