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J-GLOBAL ID：200902075684976011   Reference number：92A0609000

Fabrication of Periodic Submicron Dot Structures of N-InP by Laser-Induced Surface Electromagnetic Wave Etching.

レーザ誘起表面電磁波エッチングによるn-InPの周期的サブミクロンドット構造の作製

Author (4)： KUMAGAI H (Inst. Physical anc Chemical Research, Wako) ,  EZAKI M (Keio Univ., Yokohama) ,  TOYODA K (Inst. Physical anc Chemical Research, Wako) ,  OBARA M (Keio Univ., Yokohama)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 31  Issue： 7B  Page： L928-L930  Publication year： Jul. 15, 1992 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： indium phosphide ,...

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JST classification (1)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A)

Terms in the title (5)： レーザ誘起 ,  表面電磁波 ,  エッチング ,  InP ,  作製