Art

J-GLOBAL ID：200902080265348870   Reference number：91A0562965

ECR plasma sputter deposition of BN Films.

ECRプラズマスパッタリング法によるBN薄膜の作成

Author (3)： IMADO HAJIME (九州工大 情報工) ,  TONOUCHI MASAKICHI (九州工大 情報工) ,  MIYASATO TATSURO (九州工大 情報工)
Material： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
Volume： 38th  Issue： Pt 2  Page： 451  Publication year： Mar. 1991 
JST Material Number： Y0054A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (4)： ECRプラズマ ,  スパッタリング法 ,  BN ,  薄膜