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J-GLOBAL ID：200902082909203641   Reference number：90A0165124

Development of arc discharge plasma apparatus for high rate synthesis of diamond.

ダイヤモンド高速合成用アーク放電プラズマ装置の試作

Author (6)： OTAKE NAOTO (東京工大 工) ,  KURIYAMA YASUHIKO (東京工大 工) ,  YOSHIKAWA MASANORI (東京工大 工) ,  OBANA HIROSHI (小野田セメント) ,  KITO MASAYUKI (小野田セメント) ,  SAITO HIROSHI (小野田セメント)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 55  Issue： 12  Page： 2163-2168  Publication year： Dec. 1989 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Raman spectrum ,...
Semi thesaurus term： diamond thin film

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JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (9)：

• 1) B. V. Spityn and B. V. Derjaguin : USSR Inv. Certif., No.339134 (1956). From B. V. Spitsyn, L. L. Bouilov and B. V. Derjaguin : Vapor Growth of Diamond on Diamond and Other Surfaces, J. Crystal Growth, 52, (1981) 219.
• 2) S. Matsumoto, Y. Sato, M. Kamo and N. Setaka : Vapor Deposition of Diamond Particles from Methane, Jpn. J. Appl. Phys., 17, (1982) L183.
• 3) M. Kamo, Y. Sato, S. Matsumoto and N. Setaka : Diamond Synthesis from Gas Phase in Microwave Plasma, J. Cryst. Growth, 62, (1983) 642.
• 4) A. Sawabe and T. Inuzuka : Growth of Diamond Thin Films by Electron Assisted Chemical Vapor Deposition, J. Appl. Phys., 46, (1985) 146.
• 5) K. Suzuki, A. Sawabe, H. Yasuda and T. Inuzuka : Growth of Diamond Thin Films by dc Plasma Chemical Vapor Deposition, Appl. Phys. Lett., 50, (1987) 728.

Terms in the title (4)： ダイヤモンド ,  アーク放電 ,  プラズマ装置 ,  試作