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J-GLOBAL ID：200902086494697444   Reference number：86A0001462

Analysis of the light reflected from the micro-patterns on the LSI surfaces. Automatic detecting technique for patterned wafer surface contaminants inspection.

LSIウェハパターンからの反射光の解析 LSIウェハ上異物の自動検出技術の研究

Author (2)： KOIZUMI MITSUYOSHI (日立生産技研) ,  AKIYAMA NOBUYUKI (日立生産技研)
Material： 計測自動制御学会論文集  (Transactions of the Society of Instrument and Control Engineers)
Volume： 21  Issue： 8  Page： 856-862  Publication year： Aug. 1985 
JST Material Number： S0104A  ISSN： 0453-4654  CODEN： KJSRA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： VLSI ,...
Semi thesaurus term： LSIウェハ

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JST classification (1)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Reference (7)：

• 1) 小泉光義: 最新半導体工場自動化システム総合技術集成, 333/346, サイエンスフォーラム (1984)
• 2) Ron Iscoff: Wafer Defect Detection Systems, Semiconductor International, 5-11, 34/53 (1982)
• 3) Aaron D. Gara: Automatic Microcircuit and Wafer Inspection, Electronics Test, 4-5, 60/70 (1981)
• 4) W. J. Alford, et al.: Laser Scanning Microscopy, Proc. IEEE, 70-6, 641/651 (1982)
• 5) 秋山伸幸, 他: 偏光レーザによるパターン付試料上の異物検査の自動化, 計測自動制御学会論文集, 17-2, 77/82 (1981)

Terms in the title (7)： LSI ,  ウェハ ,  反射光 ,  解析 ,  異物 ,  自動検出 ,  研究