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J-GLOBAL ID：200902087705116431   Reference number：91A0449564

Comparison of Si(111) surfaces prepared using aqueous solutions of NH₄F versus HF.

NH₄FとHFの両水溶液を使って調製したSi(111)表面の比較

Author (4)： HIGASHI G S (AT&T Lab., New Jersey) ,  BECKER R S (AT&T Lab., New Jersey) ,  CHABAL Y J (AT&T Lab., New Jersey) ,  BECKER A J (AT&T Lab., New Jersey)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 58  Issue： 15  Page： 1656-1658  Publication year： Apr. 15, 1991 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,...

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JST classification (1)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A)

Terms in the title (5)： NH4F ,  HF ,  水溶液 ,  調製 ,  Si