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J-GLOBAL ID：200902090271563923   Reference number：92A0831821

Nucleation-Site Controlled Seedless Solid Phase Epitaxy utilizing Local Doping and Substrate Step-Structure.

局所ドーピングと基板段差により核形成位置制御したシードレス固相成長

Author (4)： MONIWA MASAHIRO (日立) ,  KUSUKAWA KIKUO (日立) ,  OKURA MASASHI (日立) ,  TAKEDA EIJI (日立)
Material： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
Volume： 53rd  Issue： 2  Page： 664  Publication year： Sep. 1992 
JST Material Number： Y0055A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (5)： ドーピング ,  段差 ,  核形成 ,  位置制御 ,  固相成長