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J-GLOBAL ID：200902090776922324   Reference number：86A0477117

UHV system for DC sputtering deposition of TiN films.

超高真空装置を用いてのTiNスパッタ膜の製作

Author (9)： MATSUDA NAMIO (高エネルギー物理研) ,  SAITO YOSHIO (高エネルギー物理研) ,  ANAMI SHOZO (高エネルギー物理研) ,  FUKUDA SHIGEKI (高エネルギー物理研) ,  SHIDARA TETSUO (高エネルギー物理研) ,  HANAKI HIROFUMI (高エネルギー物理研) ,  HONMA HIROYUKI (高エネルギー物理研) ,  NAKAO KATSUMI (高エネルギー物理研) ,  SAKAMOTO TOSHIYUKI (東大工)
Material： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
Volume： 29  Issue： 5  Page： 392-395  Publication year： May. 1986 
JST Material Number： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： nitride ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Reference (3)：

• 1) 斎藤芳男, 他 : 真空27 (1984) 461.
• 2) 斎藤芳男, 他 : 真空28 (1985) 341.
• 3) 斎藤芳男, 他 : 真空29 (1986) 投稿中.

Terms in the title (4)： 高真空 ,  TiN ,  スパッタ膜 ,  製作