Art

J-GLOBAL ID：200902092088257107   Reference number：92A0369324

Laser-Assisted Photoelectrochemical Etching of n-type Beta-SiC.

n型β-SiCのレーザ促進光電気化学エッチング

Author (3)： SHOR J S (Columbia Univ., New York) ,  ZHANG X G (Columbia Univ., New York) ,  OSGOOD R M (Columbia Univ., New York)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 139  Issue： 4  Page： 1213-1216  Publication year： Apr. 1992 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： micro circuit technique ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： SiC ,  レーザ ,  促進 ,  光電気化学エッチング