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J-GLOBAL ID：200902095614748772   Reference number：87A0330570

Interconnection and electromigration scaling theory.

内部結線と移行のスケーリング理論

Author (3)： GARDNER D S (Stanford Univ., CA, USA) ,  MEINDL J D (Stanford Univ., CA, USA) ,  SARASWAT K C (Stanford Univ., CA, USA)
Material： IEEE Transactions on Electron Devices  (IEEE Trans Electron Devices)
Volume： 34  Issue： 3  Page： 633-643  Publication year： Mar. 1987 
JST Material Number： C0222A  ISSN： 0018-9383  CODEN： IETDAI  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： VLSI ,...

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JST classification (1)： Semiconductor integrated circuit  (NC03162T)

Terms in the title (4)： 結線 ,  移行 ,  スケーリング ,  理論