Art

J-GLOBAL ID：200902095898692402   Reference number：84A0487366

“Clean” a-Si:H prepared in a UHV system.

UHVシステムで製造した“きれいな”a-Si:H

Author (3)： TSAI C C (Xerox, CA) ,  KNIGHTS J C (Xerox, CA) ,  THOMPSON M J (Xerox, CA)
Material： Journal of Non-Crystalline Solids  (J Non-Cryst Solid)
Volume： 66  Issue： 1/2  Page： 45-50  Publication year： Jul. 1984 
JST Material Number： D0642A  ISSN： 0022-3093  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： ultra high vacuum ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (2)： UHV ,  Si