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J-GLOBAL ID：200902100334218003   Reference number：01A0264653

Development of plasma-based ion implantation (PBII) techniques at Osaka National Research Institute (ONRI).

大阪工業技術研究所(ONRI)におけるプラズマ基イオン注入(PBII)技術の開発

Author (3)： CHUN S-Y (Osaka National Res. Inst., Osaka, JPN) ,  CHAYAHARA A (Osaka National Res. Inst., Osaka, JPN) ,  HORINO Y (Osaka National Res. Inst., Osaka, JPN)
Material： Surface & Coatings Technology  (Surf Coat Technol)
Volume： 136  Issue： 1/3  Page： 32-35  Publication year： Feb. 02, 2001 
JST Material Number： D0205C  ISSN： 0257-8972  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *ion implantation ,...
Semi thesaurus term： PBII ,...

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JST classification (2)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Plasma devices  (BJ02082I)

Terms in the title (6)： 大阪 ,  工業 ,  研究所 ,  プラズマ ,  イオン注入 ,  開発