Art

J-GLOBAL ID：200902101306924730   Reference number：96A0579019

First stages of platinum electroless deposition on silicon(100) from hydrogen fluoride solutions studied by AFM.

AFMで調べたふっ化水素溶液からSi(100)上への白金の無電解堆積の初期段階

Author (4)： GOROSTIZA P (Fac. Fisica, Barcelona, ESP) ,  SERVAT J (Fac. Fisica, Barcelona, ESP) ,  MORANTE J R (Fac. Fisica, Barcelona, ESP) ,  SANZ F (Univ. Barcelona, Barcelona, ESP)
Material： Thin Solid Films
Volume： 275  Issue： 1/2  Page： 12-17  Publication year： Apr. 01, 1996 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： platinum ,...

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JST classification (2)： Metallic thin films  (BK14030T) ,  Electrochemical reaction  (CB07050F)

Terms in the title (8)： AFM ,  ふっ化水素 ,  溶液 ,  Si ,  白金 ,  電解 ,  堆積 ,  初期段階