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J-GLOBAL ID：200902102638339063   Reference number：02A0270939

3D Fabrication by Moving Mask Deep X-Ray Lithography (M²DXL) with Multiple Stages.

複合ステージを用いた移動マスク深部X線リソグラフィ(M²DXL)による三次元製造

Author (5)： TABATA O (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  MATSUZUKA N (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  YAMAJI T (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  UEMURA S (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN) ,  YAMAMOTO K (Minolta Co. Ltd)
Material： Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems  (IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems)
Volume： 15th  Page： 180-183  Publication year： 2002 
JST Material Number： W0377A  ISSN： 1084-6999  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *X ray lithography ,...
Semi thesaurus term： 複合ステージ ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (4)： ステージ ,  マスク ,  深部 ,  X線リソグラフィ