Art

J-GLOBAL ID：200902103516786499   Reference number：02A0553018

Reactive sputter deposition of highly oriented AlN films at room temperature.

室温での高配向AlN膜の反応性スパッタ生成

Author (3)： IRIARTE G F (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  ENGELMARK F (Uppsala Univ., Uppsala, SWE) ,  KATARDJIEV I V (Uppsala Univ., Uppsala, SWE)
Material： Journal of Materials Research  (J Mater Res)
Volume： 17  Issue： 6  Page： 1469-1475  Publication year： Jun. 2002 
JST Material Number： D0987B  ISSN： 0884-2914  CODEN： JMREEE  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *aluminum nitride ,...
Semi thesaurus term： pressure dependence ,...

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JST classification (2)： Crystal growth of other inorganic compounds  (BK13060T) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (4)： 室温 ,  配向 ,  AlN ,  反応性スパッタ