Art

J-GLOBAL ID：200902104832850219   Reference number：97A0934944

A New Technique of Compound Semiconductor Deposition from an Aqueous Solution by Photochemical Reactions.

光化学反応による水溶液からの化合物半導体堆積の新しい技術

Author (3)： GOTO F (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  ICHIMURA M (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  ARAI E (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters & Express Letters)
Volume： 36  Issue： 9A/B  Page： L1146-L1149  Publication year： Sep. 15, 1997 
JST Material Number： F0599B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *photochemical reaction ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=97A0934944&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=F0599B") }}

JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Photochemical reactions  (CB08020F)

Reference (6)：

• FATAS, E. J. Electrochem. Soc. 1984, 131, 2243
• PAVASKAR, N. R. J. Electrochem. Soc. 1977, 124, 743
• ZOUARI, I. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 2163
• MARTINUZZI, S. Sol. Cells. 1982, 5, 243
• TELL, B. Phys. Rev. 1966, 144, 771

Terms in the title (4)： 光化学反応 ,  水溶液 ,  化合物半導体 ,  堆積