Art

J-GLOBAL ID：200902105563010744   Reference number：01A0497778

Numerical feasibility study of the fabrication of subwavelength structure by mask lithography.

マスクリソグラフィーによるサブ波長構造の作製の数値的可能性の検討

Author (2)： ICHIKAWA H (Ehime Univ., Matsuyama, JPN) ,  KIKUTA H (Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN)
Material： Journal of the Optical Society of America. A. Optics, Image Science, and Vision  (J Opt Soc America A Opt Image Sci Vis)
Volume： 18  Issue： 5  Page： 1093-1100  Publication year： May. 2001 
JST Material Number： C0327B  ISSN： 1084-7529  CODEN： JOAOD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *diffraction grating ,...
Semi thesaurus term： finite differencl time domain method

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JST classification (1)： Optical devices in general  (BD06010L)

Terms in the title (6)： マスク ,  リソグラフィー ,  サブ波長構造 ,  作製 ,  数値 ,  可能性