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J-GLOBAL ID：200902106870758396   Reference number：93A0352084

Reliable Data of Trace Impurity Contents on Si Wafers with Use of Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis.

シリコンウェーハ表面上の微量元素の全反射蛍光X線分析における注意点

Author (2)： YAKUSHIJI KENJI (昭和電工シリコン) ,  OKAWA SHINJI (昭和電工シリコン)
Material： X線分析の進歩  (X線工業分析)
Volume： 24  Page： 97-111  Publication year： Mar. 1993 
JST Material Number： Z0547B  ISSN： 0911-7806  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： total reflection ,...

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JST classification (1)： Physical analysis of elements in inorganic substances  (CC03022H)

Terms in the title (5)： シリコン ,  ウェーハ表面 ,  微量元素 ,  全反射蛍光X線分析 ,  注意