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J-GLOBAL ID：200902110382142472   Reference number：00A0502884

Narrow resonance profiling study of the oxidation of reactively sputtered Ti_1-xAl_xN thin films.

反応性スパッタしたTi_1-xAl_xN薄膜の酸化の狭共鳴プロファイリング研究

Author (6)： HUGON M C (Univ. Paris Sud, Orsay, FRA) ,  DESVIGNES J M (Univ. Paris Sud, Orsay, FRA) ,  AGIUS B (Univ. Paris Sud, Orsay, FRA) ,  VICKRIDGE I C (GPS, Univ. Paris 7 et 6, Paris, FRA) ,  KIM D J (North Carolina State Univ., NC, USA) ,  KINGON A I (North Carolina State Univ., NC, USA)
Material： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
Volume： 161/163  Page： 578-583  Publication year： Mar. 2000 
JST Material Number： H0899A  ISSN： 0168-583X  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *titanium compound ,...

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JST classification (1)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (6)： 反応性スパッタ ,  薄膜 ,  酸化 ,  共鳴 ,  プロファイリング ,  研究