Art

J-GLOBAL ID：200902112002240917   Reference number：99A0372768

Fabrication of silicon cones and pillars using rough metal films as plasma etching masks.

プラズマエッチングマスクとして粗い金属膜を用いた円錐状および柱状シリコンの作製

Author (2)： SEEGER K (Univ. Birmingham, Birmingham, GBR) ,  PALMER R E (Univ. Birmingham, Birmingham, GBR)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 74  Issue： 11  Page： 1627-1629  Publication year： Mar. 15, 1999 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *RIE ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=99A0372768&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Techniques for samples  (BA02070O)

Terms in the title (4)： 金属膜 ,  円錐 ,  シリコン ,  作製