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J-GLOBAL ID：200902112522554353   Reference number：95A0877990

Development of an advanced mask and its fabrication system.

Author (8)： TAKIGAWA T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TOJO T (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  OGAWA Y (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KOYAMA K (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ONO A (Toshiba Corp., Yokohama, JPN) ,  INOUE S (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ITO S (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  GOTO M (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 2512  Page： 180-189  Publication year： 1995 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (1)： ITS