Art

J-GLOBAL ID：200902112980882459   Reference number：00A0171443

Trial Manufacture of RF Sputtering Films with a Gradient Structure and their Characteristics.

傾斜構造RFスパッタ膜の製作と特性

Author (2)： TSUCHIDA SHIGEYUKI (鶴岡工高専) ,  YAMAMOTO YOSHIHIRO (鶴岡工高専)
Material： 鶴岡工業高等専門学校研究紀要  (Research Reports of Tsuruoka National College of Technical)
Issue： 34  Page： 13-21  Publication year： Nov. 19, 1999 
JST Material Number： S0556A  ISSN： 0286-1232  Document type： Article
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (3)： RF ,  スパッタ膜 ,  製作