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J-GLOBAL ID：200902114702671903   Reference number：93A0813465

Aluminium Diffusion in Titanium Nitride Films. Efficiency of TiN Barrier Layers.

窒化チタン膜中のアルミニウムの拡散 TiN障壁層の効率

Author (6)： GRIGOROV G I (Inst. Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, BGR) ,  GRIGOROV K G (Inst. Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, BGR) ,  STOYANOVA M (Inst. Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, BGR) ,  VIGNES J L (CECM, CNRS, Vitry/Seine, FRA) ,  LANGERON J P (CECM, CNRS, Vitry/Seine, FRA) ,  DENJEAN P (CECM, CNRS, Vitry/Seine, FRA)
Material： Applied Physics. A. Materials Science & Processing  (Applied Physics. A. Solids and Surfaces)
Volume： 57  Issue： 2  Page： 195-197  Publication year： Aug. 1993 
JST Material Number： D0256C  ISSN： 0947-8396  CODEN： APHYCC  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： titanium compound ,...

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JST classification (3)： Diffusion in metals  (BL06022C) ,  Semiconductor-metal contacts  (BM03084G) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： 窒化 ,  チタン膜 ,  アルミニウム ,  拡散 ,  TiN ,  障壁層