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J-GLOBAL ID：200902114942997270   Reference number：01A0233997

High rate growth of microcrystalline silicon using a high-pressure depletion method with VHF plasma.

高圧消費法を用いる微結晶シリコンのVHFプラズマによる高速成長

Author (5)： FUKAWA M (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  SUZUKI S (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  GUO L (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  KONDO M (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN) ,  MATSUDA A (Electrotechnical Lab., Ibaraki, JPN)
Material： Solar Energy Materials and Solar Cells  (Sol Energy Mater Sol Cells)
Volume： 66  Issue： 1/4  Page： 217-223  Publication year： Feb. 2001 
JST Material Number： D0513C  ISSN： 0927-0248  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： high pressure ,...
Semi thesaurus term： pressure dependence ,...

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JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Terms in the title (5)： 高圧 ,  消費 ,  微結晶シリコン ,  VHFプラズマ ,  成長