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J-GLOBAL ID：200902116984171749   Reference number：93A0424280

Investigations of titanium oxide films deposited by d.c. reactive magnetron sputtering in different sputtering pressures.

種々のスパッタ圧でのdc反応性マグネトロンスパッタで蒸着した酸化チタン膜

Author (2)： MENG L-J (Univ. Minho, Braga, PRT) ,  DOS SANTOS M P (Univ. Minho, Braga, PRT)
Material： Thin Solid Films
Volume： 226  Issue： 1  Page： 22-29  Publication year： Apr. 15, 1993 
JST Material Number： B0899A  ISSN： 0040-6090  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： magnetron sputtering ,...

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JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (7)： スパッタ ,  圧 ,  DC ,  反応性 ,  マグネトロンスパッタ ,  蒸着 ,  酸化チタン膜