Art

J-GLOBAL ID：200902117809922665   Reference number：95A0819949

Direct Kinetic Studies of Silicon Hydride Radicals in the Gas Phase.

気相の水素化けい素ラジカルに関する直接的な速度論的研究

Author (3)： JASINSKI J M (IBM Res. Div., New York) ,  BECERRA R (C.S.I.C., Madrid, ESP) ,  WALSH R (Univ. Reading, Reading, GBR)
Material： Chemical Reviews  (Chem Rev)
Volume： 95  Issue： 5  Page： 1203-1228  Publication year： Jul. 1995 
JST Material Number： B0256A  ISSN： 0009-2665  CODEN： CHREAY  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon compound ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=95A0819949&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=B0256A") }}

JST classification (2)： Atomic reaction and radical reaction  (CB06030C) ,  Organosilicon compounds  (CF08030C)

Terms in the title (5)： 気相 ,  水素化けい素 ,  ラジカル ,  速度論 ,  研究