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J-GLOBAL ID：200902117908456170   Reference number：99A0435963

Fundamental Analyses on Electrochemical Deposition Processes. Computer Simulation of Current Distribution in Electrolytic Cells.

めっき析出過程の基礎解析 電解槽の電流分布シミュレーション

Author (1)： OHARA KATSUHIKO (上村工業 中研)
Material： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
Volume： 50  Issue： 5  Page： 416-420  Publication year： May. 01, 1999 
JST Material Number： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Computer Simulation ,...

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JST classification (2)： Electroplating  (WC08023B) ,  Electrolytic equipment  (XE02030E)

Reference (28)：

• 日根文男. ウエムラ・テクニカルレポート. 1998, 43, 17
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1992, 24, 11
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1992, 26, 5
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1993, 27, 6
• 小原勝彦. ウエムラ・テクニカルレポート. 1996, 36, 12

Terms in the title (8)： めっき ,  析出 ,  過程 ,  基礎 ,  解析 ,  電解槽 ,  電流分布 ,  シミュレーション