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J-GLOBAL ID：200902121107410400   Reference number：99A0373257

Ablative photodegradation of poly(methyl methacrylate) and its homologues by 185-nm light.

ポリメタクリル酸メチル及びその同族体の185nm光によるアブレーション的光劣化

Author (3)： SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YAMAMOTO T (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
Material： Polymer Degradation and Stability  (Polym Degradation Stab)
Volume： 63  Issue： 3  Page： 481-487  Publication year： Mar. 1999 
JST Material Number： E0404B  ISSN： 0141-3910  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Polymethyl Methacrylate ,...
Semi thesaurus term： ポリメタクリル酸t-ブチル

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JST classification (1)： Decomposition,deterioration,degradation of polymers  (CG03010A)

Substance index (1)： Methacrylic acid isopropyl

Terms in the title (4)： ポリメタクリル酸メチル ,  同族体 ,  アブレーション ,  光劣化