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J-GLOBAL ID：200902122619191510   Reference number：99A0395285

Consideration of the X-Ray Scattering and Fluorescent Overlapping in the Theoretical Intensity Calculations of the X-Ray Fluorescence, and Its Applications to Quantitative Analysis.

散乱と重なりを考慮した蛍光X線強度の理論計算,及び定量分析への応用

Author (3)： OCHI HIROTOMO (島津製作所) ,  NAKAMURA HIDEKI (島津製作所) ,  NISHINO MAKOTO (島津製作所)
Material： X線分析の進歩  (X線工業分析)
Volume： 30  Page： 55-71  Publication year： Mar. 31, 1999 
JST Material Number： Z0547B  ISSN： 0911-7806  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *X-ray fluorescence analysis ,...

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JST classification (1)： Physical analysis of metals and alloys  (CC03040V)

Terms in the title (6)： 散乱 ,  重なり ,  蛍光X線 ,  理論計算 ,  定量分析 ,  応用