Art

J-GLOBAL ID：200902124715362441   Reference number：02A0616875

Refractive Index and Transmittance Optimization of C-S-Au Film by Plasma Process.

プラズマ処理によるC-S-Auフィルムの屈折率及び透過率の最適化

Author (3)： KASHEM A (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  MATSUSHITA M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  MORITA S (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 15  Issue： 2  Page： 317-321  Publication year： 2002 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： plasma CVD ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=02A0616875&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=L0202A") }}

JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (9)：

• 1). M.D.B. Charlton, M.E. Zoorob and G.J. Parker, Mat. Sci. Eng. B, 74 (2000) pp.17-21.
• 2). D. Cassagne, C. Jouanin, and D. Bertho, Phy. Rev. B 53 (11) (1996) p.7134.
• 3). H. Kosaka, T. Kawashima, A Tomita et. al., Phy. Rev. B 58 (16) (1998) pp.10096-10099.
• 4). L. Marutinu, Solar Energy Materials, 15 (1987) p.21.
• 5). R. d'Agostino, Ed., "Plasma Deposition, Treatment, and Etching of Polymers", Academic Press, (1990).

Terms in the title (6)： プラズマ処理 ,  Au ,  フィルム ,  屈折率 ,  透過率 ,  最適化