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J-GLOBAL ID：200902125890237699   Reference number：99A0983644

Time-resolved soft x-ray absorption spectroscopy of silicon using femtosecond laser plasma x rays.

フェムト秒レーザプラズマX線を用いたシリコンの時分解軟X線吸収分光

Author (5)： NAKANO H (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  GOTO Y (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  LU P (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  NISHIKAWA T (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN) ,  UESUGI N (NTT Basic Res. Lab., Kanagawa, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 75  Issue： 16  Page： 2350-2352  Publication year： Oct. 18, 1999 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *X-ray absorption spectrum ,...

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JST classification (2)： X-ray spectra in general.Including X-ray  (BM08101P) ,  Laser irradiation effects and damages  (BK16040S)

Terms in the title (7)： フェムト秒レーザ ,  プラズマ ,  X線 ,  シリコン ,  分解 ,  軟X線 ,  分光