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J-GLOBAL ID：200902126010870092   Reference number：01A0508812

Oxidation of 4-Chlorophenol at Boron-Doped Diamond Electrode for Wastewater Treatment.

廃水処理のためのほう素ドープダイヤモンド電極における4-クロロフェノールの酸化

Author (6)： RODRIGO M A (Univ. Castilla La Mancha, Ciudad Real, ESP) ,  MICHAUD P A (Swiss Federal Inst. Technol., Lausanne, CHE) ,  DUO I (Swiss Federal Inst. Technol., Lausanne, CHE) ,  PANIZZA M (Univ. Genova, Genoa, ITA) ,  CERISOLA G (Univ. Genova, Genoa, ITA) ,  COMNINELLIS C (Swiss Federal Inst. Technol., Lausanne, CHE)
Material： Journal of the Electrochemical Society  (J Electrochem Soc)
Volume： 148  Issue： 5  Page： D60-D64  Publication year： May. 2001 
JST Material Number： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： Diamond ,...
Semi thesaurus term： *anodic oxidation

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JST classification (2)： Other wastewater treatment and disposal  (SC03070S) ,  Electrochemical reaction  (CB07050F)

Substance index (5)： p-Benzoquinone ,  Maleic acid ,  Formic acid ,  Oxalic Acid ,  4-Chlorophenol

Terms in the title (4)： 廃水処理 ,  ほう素ドープダイヤモンド ,  4-クロロフェノール ,  酸化