Art

J-GLOBAL ID：200902130762991350   Reference number：95A0819840

Nanofabrication of thin chromium film deposited on Si(100) surfaces by tip induced anodization in atomic force microscopy.

原子間力顕微鏡におけるチップ誘起陽極酸化によりSi(100)上へ成長した薄いクロム膜のナノ構造形成

Author (4)： WANG D (Univ. California at Los Angeles, California) ,  TSAU L (Univ. California at Los Angeles, California) ,  WANG K L (Univ. California at Los Angeles, California) ,  CHOW P (SVT Associates, Inc., Minnesota)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 67  Issue： 9  Page： 1295-1297  Publication year： Aug. 28, 1995 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： Chromium ,...
Semi thesaurus term： anodic oxidation

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=95A0819840&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

JST classification (2)： Surface structure of semiconductors  (BK15030A) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (7)： 原子間力顕微鏡 ,  誘起 ,  陽極酸化 ,  Si ,  成長 ,  クロム ,  構造形成